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SEM扫描电镜原位等离子处理仪
相互作用在表面生成的烃也越多越快。甚至随碳积影响,表面会累积电荷导致无法清晰成像。更有甚者,碳氢化合物污染严重的时候,可能会导致电子光学成像部件及探测器等污染,使电子束及成像漂移。解决方案:离子源通入
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Helios 5 Hydra DualBeam等离子聚焦离子束扫描电子显微镜
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聚焦离子束扫描电镜—GAIA3 XMU/XMH
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TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)
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TESCAN Xe等离子双束扫描电镜(FIB-SEM)
世界第一个完全集成式Xe等离子源聚焦离子束扫描电子显微镜----FERA3,提供了超高离子束束流(zei高束流为2μA),其溅射速度比Ga离子源高50多倍。对于目前浪费时间或不可能进行的需要
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日本电子JIB-4500聚焦离子束扫描电镜
FIB 分辨率: 5nm, 30kV SEM分辨率: 2.5nm, 30kV (LaB6) SEM加速电压:0.3k~30kV SEM放大倍数:5~30万倍 样品台: X/Y 76
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聚焦离子束扫描电镜 —LYRA 3 GAIA3 XMU/XMH
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SEM扫描电子显微镜用多功能离子溅射仪
桌面级SEM扫描电镜用多功能离子溅射仪,特别适用于FE-SEM高分辨扫描电镜样品的喷金以及样品等离子体清洗等多种用途。采用分子泵泵组获得< 9*10-6 Torr本底真空,可以在mTorr气压
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GAIA3(XMU/XMH) Ga离子双束扫描电镜(FIB-SEM)
超高的纳米分辨率:15keV下0.7nm,1keV下1nm极限超高分辨率:1keV下1nm背散射电子图像分辨率:1.6 nm @ 15keV (低真空模式)二次电子图象分辨率:0.7 nm
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Helios 5 PFIB DualBeam聚焦离子束扫描电子显微镜
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