-
高压汽液平衡釜
高压汽液平衡釜设计参数:密封方式O 型圈自紧密封加热功率500~4000W (注 1)设计温度300℃使用温度50~250℃控温精度±1℃ (无强放热吸热情况下)设计压力150bar爆破压力
-
GSL-PECVD-300化学气相沉积
沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅
-
LESA® 多通道纳喷离子源
,萃取液经由基于芯片的纳升电喷雾离子化(Chip‐based nanoESI),进行串联质谱或高分辨质谱分析。“LESA 多通道纳喷离子源 - 质谱系统”是集液相色谱(LC)、质谱(MS)、芯片纳升
-
TacticID-N Plus毒品、易制毒品手持拉曼分析仪
激发波长 785nm±0.5nm 稳定性<0.5 cm-1,带宽<2.0cm-1激光功率0mW-300mW(10%线性可调)光谱范围176cm-1~ 2900cm-1光谱分辨率
-
DiscovIR 固相沉积型气红联用仪
信噪比:高灵敏度10 ng扫描速度:≥32次分辨率:4cm-1波数范围:4000-700cm-1仪器类型:实验室型仪器种类:红外辅助设备 DiscovIR的固相沉积型气红联用仪是对色谱
-
快速热化学气相沉积系统(RTCVD)
性能和特点:- 温度范围:室温 ~ 1500°C;- 升温速度:200°C/s;- 气体混合能力(带有质量流量计);- 真空度:~10-6Torr; RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛
-
PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
-
Fabric Vapor Lab小型汽蒸机
● 包含样品固定架, 尺寸为450 x 450mm● 可以提供外接蒸汽发生器的型号-3107A.● 电源: 380 V,50Hz,三相● 重量: 110Kg● 尺寸: (L)1100 x (W
-
微波能化学气相沉积系统,WBQXCJ-4,VKTR
接口电源电压(V)220微波泄漏量/mW/㎝2≤0.4外型尺寸(长′宽′高)/mm1500×750×1550 微波材料学工作站--微波能化学气相沉积系统 主要用途:主要为应用在半导体
-
Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net