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聚焦离子束系统
操作系统上的SmartSEM操作界面。由鼠标,键盘,操作杆控制或控制板(可选) 这是一台zei新设计的聚焦离子束系统,具备高分辨率成像功能。它由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成,可以
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Helios G4 FX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统
DualBeam 平台,能够为 7nm 工艺开发与改进制作高质量的超薄 TEM 薄片样品。Helios G4 FX 包含全新的高性能 Phoenix 聚焦离子束 (FIB) 镜筒,让 DualBeam
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日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束
主要特点:? 浸没式热场发射电子枪提供高稳定的电子束束流,与最佳光栏角控制透镜配合获得高分辨图像. ? 电子束大电流高速分析电子束最大束流强度200nA ? 离子束大电流模式 加工速度很快
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日立高新FB2200聚焦离子束系统
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SPECTRO MS双聚焦ICP-MS等离子质谱仪
给质量分析器。 首先,提取透镜除去从截取锥射入的气流中的电子,而正电荷离子束聚焦到预过滤器。提取透镜可方便取下清洁而不用破坏高真空。预过滤器是一个127°扇形静电场,把离子规范为按圆形路径飞行,而光
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JIB-4610F聚焦离子束双束(FIB)
仪器简介:JIB-4610F是集成扫描电镜和聚焦离子束于一身高性能仪器。电子光学系统采用场发射电子枪,对进行实时研磨监控。该仪器又是一个微区观察、样品分析、微区研磨的集合体,应用范围广泛
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Helios G4 HX 等离子聚焦离子束 (FIB) 系统用于半导体行业
专为解决各种高级半导体失效分析实验室面临的挑战而设计 Helios G4 HX 取代获得极大成功的 Helios 460HP,成为业内通量zei高的专用透射电子显微镜 (TEM) 片层样品制备平台
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Helios 5 Hydra DualBeam等离子聚焦离子束扫描电子显微镜
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聚焦离子束扫描电镜—GAIA3 XMU/XMH
高达200nA的束流强度停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度FIB的Cobra光学系统,确保聚焦离子束极高的分辨率和优异的性能,离子束流为1pA到50nATESCAN GAIA3电镜系统完美
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
)原位样品提取系统 (EM-02230) JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后,就能对样品表面进行SIM观察 、研磨
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