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多工位真空气氛管式炉
升温速度(达到zei高温)20℃/min内部尺寸Φ25、Φ50×600mm加热方式掺钼铁铬铝合金电阻丝zei大功率1.2KW控温精度±1℃zei高温度1100℃ (< 2小时)仪器种类管式炉
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1500℃单温区开启式管式炉--OTF-1500X
升温速度(达到zei高温)10°C/min.内部尺寸60 O.D x 53 I.D x 1000mm L加热方式仪表控温zei大功率6K W控温精度+/- 1 oCzei高温度1500 oC仪器
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4路质子混气管式PECVD系统
沉积生成薄膜。科晶公司提供定制的薄膜材料的实验室质量可靠、价格合理的紧凑型PECVD系统。下图显示的是PECVD法用500W交流等离子体与OTF1200X50、7通道精密质量流量计和高真空系统气体组成
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1200℃混合箱式/管式炉
。 结构高纯氧化铝纤维做为炉膛材料,并且表面涂有高温氧化铝涂层,可提高加热效率和保证温度均匀性采用双层壳体结构,并且安装有风冷系统,使壳体表面温度小于60℃加热元件安装在炉膛的顶部和两侧炉膛
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微型开启式管式炉
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高温真空气氛管式炉
升温速度(达到zei高温)5℃ / min内部尺寸OD:60 mm x ID: 53 mm x 1000 mm l加热方式Kanthal 1900ºC 硅钼棒zei大功率5KW控温精度
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立式炉
GSL-1700X-VT GSL-1700X-VT是一款通过CE认证的高温立式管式炉,采用硅钼棒进行加热。专门设计针对于材料在真空或气氛保护环境下对材料进行烧结,zei高温度可以达到1700
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微型箱式炉
种类箱式炉 KSL-1200X-J是一款通过CE认证的小型箱式炉,其炉膛尺寸为150mmX155mmX180mm (4.2L),采用高纯氧化铝作为炉膛材料,炉膛表面涂有高温氧化铝涂层,以保持炉膛洁净
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4英寸真空立式淬火炉
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带有预热系统的滑动PECVD
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