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2,6-双(4-叠氮苯亚甲基)环己酮 (约30%水润湿品) (单位重量以干重计) [用于感光材料的研究]
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ARF photoresist
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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ArF光刻胶
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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Thermo Scientific™ 249952 Nunc™ 96 孔聚苯乙烯V形底 MicroWell™ 板
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Thermo Scientific™ 249570 Nunc™ 96 孔聚苯乙烯V形底 MicroWell™ 板
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Thermo Scientific™ 249940 Nunc™ 96 孔聚苯乙烯V形底 MicroWell™ 板
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Thermo Scientific™ 249935 Nunc™ 96 孔聚苯乙烯V形底 MicroWell™ 板
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Thermo Scientific™ 277143 96 Well Conical (V) Bottom Plate, Non-Treated Surface, Pack of 1
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Thermo Scientific™ 249662 Nunc™ 96 孔聚苯乙烯V形底 MicroWell™ 板
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Thermo Scientific™ 165195 384 Well White Plate, TC Surface, no Lid, Pack of 25
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