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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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NIE-3000 IBE离子束刻蚀
NIE-3000IBE离子束刻蚀:是一款手动放片/取片,但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统,可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。
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NIE-4000(M)IBE离子束刻蚀
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上海伯东代理超高真空离子刻蚀机 IBE
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准离子刻蚀 IBE上海伯东代理超高真空离子刻蚀机 IBE, 我们数十年来一直致力于超高压沉积技术, 帮客户定制设备完成特殊
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牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE
离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。
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NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
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NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀:是一款自动放片/取片,并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。
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NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀:是一款自动放片/取片,并且工艺过程为全自动计算机控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,可以用于表面清洗、表面处理、离子铣。
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Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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