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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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Trion Orion III PECVD 薄膜沉积系统
所有安全,设施和工艺标准要求。Trion Orion III PECVD薄膜沉积系统具有许多标准的需求功能,而且是这样一个如此合理价格,这就是为什么许多世界各地的用户已经作出了Trion Orion
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用化合物半导体
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 真空进样室进样
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