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电弧等离子体沉积系统
日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
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ADVANCE RIKO电弧等离子体沉积系统其它 应用于电子/半导体
, Junko Matsuda, Masamichi Nishihara, Akari Hayashi, Kazunari Sasaki. Porous Metal Support for Gas
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ADVANCE RIKO暂无电弧等离子体沉积系统 电弧等离子体沉积系统
Matsuda, Masamichi Nishihara, Akari Hayashi, Kazunari Sasaki. Porous Metal Support for Gas Diffusion
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其它暂无电弧等离子体沉积系统 适用于双电弧等离子体源共沉积
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电弧等离子体沉积系统其它暂无 可检测铂-镍合金纳米颗粒堆叠薄膜
Noda, Junko Matsuda, Masamichi Nishihara, Akari Hayashi, Kazunari Sasaki. Porous Metal Support
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