原子层沉积系统(ALD)
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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三维原子层沉积系统 ALD
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PICOSUN原子层沉积设备ALD
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Ald-Ph-NHSester CAS:60444-78-2 乐研Leyan.com
乐研Leyan.com:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。Ald-Ph-NHSesterCAS No. :60444-78-2产品编号:1175725英文名称:Ald-Ph-NHS ester
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用纳米多孔结构的涂层
并完善。OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统 应用高K栅氧化物
原子层沉积(atomiclayer deposition,ALD)技术,亦称原子层外延(atomiclayer epitaxy,ALE)技术,是一种基于有序、表面自饱和反应的化学气相薄膜沉积技术
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ALD排液装置
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Ald-Ph-PEG2-NH-Boc CAS:1807503-90-7 乐研Leyan.com
乐研Leyan.com:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。Ald-Ph-PEG2-NH-BocCAS No. :1807503-90-7产品编号:1185375英文名称
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
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原子层沉积系统ALD
全自动进样设计,可容纳8英寸基片。优化的辐射加热系统,使温度均匀性高达99%,气流优化设计结合前驱体瓶加热,管路加热,不仅实现在8英寸基体上膜厚的不均匀性<±1%,而且更适合对超高长径比的孔径结构等
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