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国仪量子 国产PCB行业芯片设计专用场发射扫描电镜 SEM5000
是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描电子显微镜。先进的镜筒设计,高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,实现了低电压高分辨率成像,同时磁性样品可适用。
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国仪量子 国产PCB行业芯片设计专用场发射扫描电镜 SEM5000
是一款分辨率高、功能丰富的场发射扫描电子显微镜。先进的镜筒设计,高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,实现了低电压高分辨率成像,同时磁性样品可适用。
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国仪量子 国产PCB行业芯片设计专用场发射扫描电镜 SEM5000
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JSM-IT510 InTouchScope™ 扫描电子显微镜
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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国仪量子 国产PCB&芯片设计专用场发射扫描电镜 SEM4000Pro
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光束匀化方案
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