-
三靶射频磁控溅射镀膜仪
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的
-
Q300T T Plus 三靶溅射镀膜仪
-
5靶头等离子射频磁控溅射仪
VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5
-
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
-
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
-
三靶高真空磁控镀膜溅射系统
产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控镀膜溅射系统主要特点1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由
-
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于多靶磁控溅射镀膜机
某 OEM 厂商为了提高镀膜机镀膜的品质, 其为客户搭建的多靶磁控溅射镀膜机的溅射源采用 KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍尔离子源 Gridless eH
-
磁控溅射卷绕镀膜机
产品简介:磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜
-
300W射频等离子磁控溅射镀膜仪--VTC-2RF
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作
-
VTC-600G高真空磁控溅射仪
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net