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三靶高真空磁控镀膜溅射系统
产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控镀膜溅射系统主要特点1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由
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Q300T T Plus 三靶溅射镀膜仪
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德国徕卡 镀膜仪 EM ACE200
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高真空镀膜机 Leica EM ACE600
Leica EM ACE600是完美的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细粒度的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。
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德国徕卡 高真空镀膜仪 EM ACE600
:溅射、碳丝蒸发、碳棒蒸发、电子束蒸发和辉光放电。适用于Leica EM ACE600高真空镀膜机的Leica EM VCT真空冷冻传输系统,是无污染的低温电子显微镜样本制备的理想解决方案
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
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磁控溅射卷绕镀膜机
产品简介:磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜
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小型离子磁控金属真空镀膜机
KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪,仪器虽小功能齐全,配备有电压 电流反馈,样品台旋转,样品高度调节,及电动挡板功能
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LUXOR Pt 磁控离子溅射仪
碎屑沉积,镀膜均匀一致,触摸屏控制,操作简单,不需要手动调节电压电流,只需设置镀膜厚度,真空度,无需操作经验,几分钟即可学会使用。 主要技术指标和特点如下:------ 三种模式: 金属溅射,样品干燥
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VTC-180EVS溅射蒸发一体机
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