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Harshaw TLD 热释光剂量元件
热释光剂量元件• 符合ANSI N545-1993,满足即将发布的N13.37• LiF:Mg, Cu, P材料• 测量: ■ Hp (10)-深层剂量 ■ Hp (3)-眼晶体剂量 ■ Hp
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合肥科晶开启式管式炉系列
OTF-1200X单温区开启式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤60℃,炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。内炉膛表面涂有1750℃美国进口的高温氧化铝涂层材料提高反射率及设备
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光栅及球面、非球面等光学元件 光栅
岛津光学,在高精度光学技术和半导体制造的沿用中,积累了丰富的精细加工和精密组装技术,不仅可提供光栅、球面/非球面镜、特殊镜片及偏光镜等各种光学元件外,还可提高分析检测、临床及图像打印的性能要求。
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合肥科晶KSL-1700X高温箱式炉
KSL-1700X系列高温箱式炉是一款CE认证的高温箱式炉,炉膛尺寸多样,以硅钼棒为加热元件,518P智能温度调节仪和B型双铂铑热电偶配套使用,由此进行对炉膛内部温度的测温调节、自动控制。炉膛
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合肥科晶KSL-1100X-S微型箱式炉
KSL-1100X-S微型箱式炉是以电阻丝为加热元件、采用K型热电偶和30段可编程温度控制器。下拉式炉门结构,方便客户放取样品;炉膛采用日制高质量氧化铝微晶体纤维材料,最高温度能达到1100
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Harshaw TLD 热释光剂量元件
热释光剂量元件• 符合ANSI N545-1993,满足即将发布的N13.37 • LiF:Mg, Cu, P材料• 测量: ■ Hp (10)-深层剂量 ■ Hp (3)-眼晶体剂量
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马尔文帕纳科 2830 ZT 晶圆分析仪
2830 ZT 波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 晶圆分析仪提供了用于测量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圆分析仪专门针对半导体和数据存储行业而设计,该仪器可为多种晶片(厚达 300
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福禄克 molbloc-L 层流元件
用于 1 sccm 到 100 slm 流量的层流元件molbloc-L 是与 molbox 质量流量终端结合使用的层流元件。molbloc 流量路径位于 molbloc 内,是活塞与结合紧密的
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ICS429/439仪表
ICS429/439基本称重产品快速而精确称重 LCD点阵屏确保您可以清晰、舒适地获得称重结果。有三种数据显示模式,使数据显示更直观。ICS仪表可以按照您的需要进行个性化显示
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枝晶评估 Leica Dendrite Expert
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