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SBC-12小型离子溅射仪
本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、铬、银、钛、铜、镍、金钯合金等
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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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BRIGHT KAS-2000F 离子溅射仪
KAS-2000F离子溅射是布莱特公司针对SEM/TEM开发出的zei新产品,它可以对不导电样品进行喷镀,使导电性不理想的样品也能够在SEM/TEM中进行观测。
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000
液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。
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MiniQS高性能离子溅射镀膜仪
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LUXOR Au 磁控离子溅射仪
LUXOR Au喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!主要技术指标和特点如下:------ 三种模式: 金属溅射,样品干燥
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LUXOR Pt 磁控离子溅射仪
LUXOR-Pt 喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!采用独特的样品倒挂设计,装取样品简易,无高压线缆外置,样品避免碎粒
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马尔文帕纳科 2830 ZT 晶圆分析仪
2830 ZT 波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 晶圆分析仪提供了用于测量薄膜厚度和成分的功能。 2830 ZT 晶圆分析仪专门针对半导体和数据存储行业而设计,该仪器可为多种晶片(厚达 300
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合肥科晶开启式管式炉系列
OTF-1200X单温区开启式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤60℃,炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。内炉膛表面涂有1750℃美国进口的高温氧化铝涂层材料提高反射率及设备
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普罗美特Luxor Au 磁控离子溅射仪
Luxor Au 磁控离子溅射仪LUXOR喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!电源
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