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Nexera Quaternary 快速LC分析条件优化系统
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优化平面型GEM-S探测器
以晶体尺寸定义其型号,同一型号的探测器采用相同的晶体结构和尺寸,从而保证了相当一致的效率曲线 优化平面型: GEM-S 型号晶体尺寸(mm)能量分辨率-FWHM(≤keV)峰形(≤)峰康比
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哈希ULTRATURB plus sc 浊度分析仪 优化市政自来水过滤工艺
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哈希WTOS-水处理优化解决方案
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哈希ULTRATURB plus sc 浊度分析仪 优化市政污水处理厂过滤工艺
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TESCAN TIMA-X FEG 集成矿物分析仪 矿石工艺优化
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工艺开发和培养基优化服务
关系。 通过我们总周期支持服务的优化,你将从广泛、系统的细胞培养方法 中受益。 工艺开发的集成方法 早期开发过程中制定的决策对工艺开发和生物制造有很大的影响。我 们可以帮助您集成和优化工艺
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哈希ULTRATURB plus sc 浊度分析仪 优化工业废水处理厂的过滤工艺
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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