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微粒晶片表面沉积系统
仪器简介:高效率微粒表面沉积系统包括zei先进的气溶胶雾化发生、静电分离及沉积技术,用于产生可溯源NIST的PSL球及加工过程颗粒沉积在晶片表面的标准晶片,用于研究不同折射稀疏对晶片检测
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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A36双晶64晶片线性探头
在近期发布了全新A36双晶64晶片线性探头。全新A36双晶64晶片线性探头的推出,将在大壁厚情形下,协助塑造更为优质的焊缝检测解决方案。更强穿透力A36双晶64晶片线性探头通过将通道数量加倍,进而
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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赛默飞iCAP™ TQ ICP-MS等离子体质谱仪 测定硅晶片表面上的超痕量元素
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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掺镁铌酸锂晶片
美国Crystal Technology公司提供掺MgO铌酸锂晶片(MgO:LN)。 由于没有光折变损伤,具有高纯度与高损伤阈值的掺氧化镁铌酸锂晶体能够承受的光强比一般的非掺杂纯铌酸锂晶体高几百
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离子束刻蚀/沉积系统
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电弧等离子体沉积系统
日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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