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Agilent 8255 氮化学发光检测器 (NCD)
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
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高真空钽加热炉
产品简介:高真空钽加热炉是高温电阻加热炉。以钽为加热元件,适用于高真空状态下对金属、非金属及其化合物进行烧结、熔化,也可以对小型样品进行真空钎焊的操作,如硬质合金、镍基合金、粉末冶金、镍钴合金
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钽(Ta)片
产品名称:钽(Ta)片产品参数:常规尺寸:10x10x1.0mm 标准包装:1000级超净室100级超净袋真空包装储存须知:由于金属极易氧化,请于真空储藏。
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅刻蚀SiC—刻蚀碳化硅化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓
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进口钽带 Ta
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赛默飞 系列 ICP-OESICP-AES 可检测钽粉
赛默飞ICP-AESiCAP 7000 Plus可以用在化工试剂/助剂行业领域,用来检测钽粉,可完成氢氟酸、硝酸项目。符合多项行业标准金属百科.钽的用途及应用领域.http
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氮化硅浆料亲和性分析仪
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
能力。请与我们联系,讨论您的特定需求,我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具,以满足您的需求。化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
我们联系,讨论您的特定需求,我们专业的销售和应用工作人员将很高兴帮助您选择合适的刻蚀工艺和工具,以满足您的需求。化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合
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