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自动曝光控制系统衰减测试模型
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日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC
平行光曝光系统设计紧凑的平行光曝光系统。这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成,曝光方式可以是真空接触(硬接触)曝光方式。 也可根据要求
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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多功能电子束曝光机
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紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外掩曝光机特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于
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无掩模曝光机
美国IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术,已成为无掩模紫外光刻领域的领导者
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虹科ALE紫外光刻光源/曝光光源
虹科ALE紫外光刻光源/曝光光源ALE/1C UV-LED 曝光系统提供与 1 kW 和 2 kW 汞弧灯的照明功率相匹配的最高输出水平一、主要特色:虹科 ALE/1C 是一种用于多用途工业应用的
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光罩对准曝光机
MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机,是韩国第一家研发并商业化光罩对准曝光机的企业,始终致力于
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飞利浦曝光灯管,晒版灯管
飞利浦PL-L36W/09/HPA400S/HPM12/HPM13/HPM15/HPM17/UV固化灯管,曝光灯管,晒版灯管, 惠州同为电子有限公司 是中国zei具规模的飞利浦
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