-
牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
-
日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 纳米压印
产品特点:JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个
-
Imprint Nano纳米压印
纳米压印的技术与工艺特点,独创性地设计和制备工作于低真空环境下,结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的,通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印
-
Obducat电子束刻蚀系统
仪器简介:1998年Obducat公司并购了在SEM有三十年经验的Camscan,并结合自身在纳米压印设备以及光存储设备的开发经验,研发了电子束刻蚀设备,提供EBR-30kV
-
牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
-
牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
-
JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
-
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
-
纳米压印设备之热压印:EVG510HE
-
3D纳米结构高速直写机
-
1.
质谱中标盘点 三个品牌占据一半市场
-
2.
2023仪器产业营收超1万亿,这些仪器公司增长显著
-
3.
阿尔塔科技质量总监徐银分享:质谱领域全面探讨,临床质谱前沿揭秘
-
4.
2024年第一季度微波消解仪中标盘点,三大品牌占八成市场
-
5.
天津发布推动大规模设备更新和消费品以旧换新实施方案
-
6.
精神类治疗药物浓度监测室间比对评价中心挂牌仪式
-
7.
精神类药物LC-MSMS检测标准化方法学 临床应用专家共识起草工作组建立
-
8.
青岛启动国家重点研发计划科学仪器项目
-
9.
被印度“围剿”的中国CAR-T:不仅是药企不“争气”
-
10.
“天都”来袭,国仪量子比表面积及孔径分析仪Climber 60震撼发布
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net