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电镜制样抛光器
电镜制样抛光器是电镜机械制样所需的微纳机械制样抛光仪和微纳机械制样研磨仪,设计用于平面机械研磨磨削,dimpling,机械减薄和机械抛光功能, 帮助用户获得高品质机械制样结果。电镜制样抛光器是一种
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抛光机徕卡Leica EM TXP 德国 电镜制样流程图
抛光机徕卡Leica EM TXP 德国 电镜制样流程图有特定规范与标准,应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876
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牛津仪器电镜制样
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牛津仪器电镜制样
显示器,2U机架式以太网控制器,带有100nm线性反馈的3轴样平台运动控制软件界面。用户手册和安装指南。OmniProbe400采用压电驱动技术,可以实现纳米级别的定位。具有很高的灵活性和性能,是
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三头制样粉碎机
仪器简介:入料粒度≤20mm,粉碎钵数3头,每头装样量100g,开盖自动断电保护。技术参数:入料粒度≤20mm,粉碎钵数3头,每头装样量100g,开盖自动断电保护。主要特点:入料粒度
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Claisse 系列熔融制样前处理设备
Claisse® 电子和气体自动仪器经专门设计,具有高分析精度和可重复性。 型号:Claisse LeNeo,Claisse TheOx Advanced,Claisse Eagon 2
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Leica EM TIC 3X抛光机徕卡 德国 电镜制样流程图
Leica EM TIC 3X抛光机徕卡 德国 电镜制样流程图有特定规范与标准,应用于其他生命科学行业领域。点击查看相关规范标准。 徕卡电镜制样流程 Leica Vienna -Since 1876
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电镜制样Leica EM TP 徕卡
组织处理和树脂渗透,满足实验室日常工作需求。特点:小批量、试剂消耗少主要技术参数:• 样本容量:三种配套可选电镜配套:56个/次光镜配套:16个/次电镜三样品篮系统:168个/次• 试剂消耗:电镜配套
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电镜制样 OmniGIS II牛津仪器
新产品OmniGISII是一个气体注入系统,具有单端口设计,可用于SEM和FIB里构建纳米结构。它能够以前所未有的精度、速度和可用性来引入可控制的流动气体方案,在扫描电镜或聚焦离子束样品室中直
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电镜制样 牛津仪器TKD样品座
更加准确的信号量。TKD分析仍使用原有的EBSD软硬件,只是样品更薄且经过电解抛光穿孔。由于衍射信号来自样品下侧几个或几十个纳米厚度的区域,该技术也被称为透射EBSD(T-EBSD)。样品薄区的衍射
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