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离子束刻蚀/沉积系统
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离子束刻蚀系统
仪器应用: 离子抛光 离子清洗 等离子体灰化 等离子体氧化、氮化 表面改性 反应刻蚀 生物医药 传感器 技术参数: 1,真空系统: 尺寸: 72英寸X 50
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Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
耦合等离子体刻蚀铝溅射刻蚀Au—溅射刻蚀金刻蚀Cr—刻蚀铬Cu刻蚀(反应离子刻蚀)—刻蚀铜刻蚀Mo—刻蚀钼刻蚀Nb(反应离子刻蚀,感应耦合等离子体)—刻蚀铌刻蚀Ni—刻蚀镍离子束刻蚀Ni—刻蚀镍铬合金
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JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
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JIB-4000PLUS 聚焦离子束加工观察系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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NIE-3000 IBE离子束刻蚀
NIE-3000IBE离子束刻蚀:是一款手动放片/取片,但工艺过程为全自动计算机控制的台式离子束刻蚀系统,可以用于表面清洗、表面处理、离子铣等。
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IB-19530CP截面样品制备装置
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