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离子束刻蚀/沉积系统
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离子束溅射沉积系统
结晶GaN 主要特点: 高效高产量,低能量等离子体源 6 x 4" 偏置靶材旋转架 独立偏置靶材,专业用于控制沉积合金复合材料 100mm 直径样品表面处理
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
上海伯东美国 KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子
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KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, IBSD 离子束溅射沉积 和
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离子束溅射镀膜机IBS系统-Denton离子束溅射镀膜
产品描述离子束系统可以实现:稳定的膜层沉积速率;化学成分稳定多种可选项,以适应不同应用要求:多种离子源可选;多种 工装夹具可选;多种镀膜控制方式可选;剩余气体分析;自动化控制方式可选离子束溅射的优点
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离子束辅助沉积系统
本公司为您提供经济型超高真空离子束辅助沉积系统。 技术规格: 1)基础真空:5x10-10 torr 2)腔体尺寸优化易于装配 3)真空泵效率高 4)根据客户要求做定制
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统 沉积碳
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JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
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DENTON离子束溅射系统-丹顿IBS,IBD
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