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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
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等离子增强化学气相沉积
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用化合物半导体
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 真空进样室进样
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光电子学
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