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紫外曝光机
这款紫外曝光机非常适合对紫外光敏感层的处理,是理想的紫外掩曝光机系统。应用:紫外曝光机适合光学,生物,微纳科技,光刻等领域需要1-2掩膜的应用。紫外掩曝光机特点1)完美的单色曝光,曝光带宽小于
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意大利Cofomegra紫外曝光机
简介:真空曝光机:用于对厚度至7mm的锌板和镁板进行曝光试验.两个型号:板尺寸至75 x 85 cm和90 x 110 cm金属卤化物灯该款曝光机用于研究不适用常规标准的曝光试验,用于测试薄膜和板
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光刻机 / 紫外曝光机 (Mask Aligner)
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多功能电子束曝光机
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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光刻胶紫外曝光测量
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无掩模曝光机
美国IMP(Intelligent Micro Patterning, LLC)公司凭借多年的光刻设备生产经验和多项无掩模曝光专利技术,已成为无掩模紫外光刻领域的领导者
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自动曝光控制系统衰减测试模型
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光罩对准曝光机
MIDAS SYSTEM公司开发并生产用于半导体、MEMS、LED及纳米技术相关的实验室和工业领域的光罩对准曝光机和甩胶机,是韩国第一家研发并商业化光罩对准曝光机的企业,始终致力于
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虹科ALE紫外光刻光源/曝光光源
虹科ALE紫外光刻光源/曝光光源ALE/1C UV-LED 曝光系统提供与 1 kW 和 2 kW 汞弧灯的照明功率相匹配的最高输出水平一、主要特色:虹科 ALE/1C 是一种用于多用途工业应用的
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