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美国YES自动硅烷单层沉积系统
压印光刻(NIL)应用,应涂防粘涂层以延长冲压工具的使用寿命•在生命科学中,应用硅烷表面单层在固体底物和生物分子(包括DNA和蛋白质)之间实现稳定的共价键连接•薄的自组装单层(SAM)涂层,用于半导体
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美国YES-EcoCoat硅烷单层气相沉积系统
产品概述凭借其可配置的大容量腔室,手动加载的EcoCoat硅烷气相沉积系统旨在满足您的工艺开发和批量生产要求。 三条独立的蒸汽输送管线,出色的热均匀性和原位气体等离子体为系统提供了工艺灵活性,同时为
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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美国YES真空固化系统
产品概述YES-VertaCure由世界上最大的公司选择,是经过生产验证的平台,可容纳200mm/300mm晶片,并在集成的1类微型环境中自动处理多达两个处理模块。真空固化的优势•3.5小时与8小时
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美国YES手动加载真空固化系统
面积:23.95厘米(宽)x45.97厘米(深)x24.69厘米(高)—(9.43“ x18.10”x 9.72“)系统整体尺寸:68.96厘米(宽)x145.92厘米(深)x 77.87厘米(高
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美国YES HMDS真空固化/蒸汽灌注系统
产品概述YES TA系列真空固化/蒸气底漆系统使用六甲基二硅氮烷(HMDS)提供快速,均匀,经济的底漆,以改善光刻胶的附着力。 这些多功能系统还支持图像反转,以与正性抗蚀剂相同的分辨率和易用性形成负
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美国YES–G1000等离子清洗系统
产品概述YES–G1000对于清洁,剥离和表面改性,等离子体是有毒化学物质的有效替代品,并且在表面上没有残留溶剂。 副产物是惰性的并且对环境安全。 G1000的工作频率为13.56MHz,用户可以从
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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离子束刻蚀/沉积系统
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