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多功能离子减薄仪
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Gentle Mill离子减薄仪/离子精修仪
Gentle Mill 离子精修仪专为最终抛光、精修和改善 FIB 处理后的样品而设计。非常适合要求样品无加工痕迹、表面几乎没有任何损坏的 XTEM、HRTEM 或 STEM 的用户。
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离子减薄仪
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离子减薄仪
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离子刻蚀(抛光/研磨/截面)仪
、控制精度高,实验结果精准可控重复性高; 5、配备专用截面样品台; 6、可实现多种功能:离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备; 7、专用挡板
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离子镀膜仪
; 8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀; 9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等; 10、数字化自动控制系统。二、技术参数: 1、真空度:极限真空度5*10-3Pa(不通
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手套箱离子镀膜仪
; 8、加入特殊气体,可进行反应离子束刻蚀; 9、可实现的功能有:等离子清洗、镀膜等; 10、数字化自动控制系统。二、技术参数: 1、真空度:极限真空度5*10-3Pa(不通氩气
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手套箱离子刻蚀仪
、控制精度高,实验结果精准可控重复性高; 5、配备专用截面样品台; 6、可实现多种功能:离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备; 7、专用挡板
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直流离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理直流溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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手套箱离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理磁控溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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