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离子镀膜仪
一、产品特点: 1、面积大:0~Ø25毫米、0~Ø50毫米; 2、溅射样品表面膜层更均匀; 3、颗粒度更小(3nm左右); 4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度
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手套箱离子镀膜仪
一、产品特点: 1、面积大:0~Ø25毫米、0~Ø50毫米; 2、溅射样品表面膜层更均匀; 3、颗粒度更小(3nm左右); 4、溅射到样品表面能量低,对样品损伤小;(适用温度
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手套箱离子刻蚀仪
、控制精度高,实验结果精准可控重复性高; 5、配备专用截面样品台; 6、可实现多种功能:离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备; 7、专用挡板
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直流离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理直流溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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手套箱离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理磁控溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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静电纺丝机
一、产品特点: 1.普适的实验室使用环境,对外界使用环境温湿度没有要求,温度、湿度可控; 2. 实验室只需要准备电源即可; 3. 成熟的静电纺丝平台和优良的运动控制系统
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离子刻蚀(抛光/研磨/截面)仪
、控制精度高,实验结果精准可控重复性高; 5、配备专用截面样品台; 6、可实现多种功能:离子减薄、等离子清洗、截面样品抛光、离子刻蚀、EBSD样品制备; 7、专用挡板
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离子减薄仪
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磁控离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理磁控溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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GVC-1000小型离子溅射仪
主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等
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