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该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有zei大的工艺灵活性,适用于化合物,光电子学,光子学,微机电系统和微流体技术
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芯硅谷 B3672 砂芯漏斗,高硼硅,2ml-600ml,砂板孔隙度:G1,G2,G3
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芯硅谷 铝箔卷A1423 高温锡箔纸烧烤 烤箱锡纸 铝箔卷膜 油纸
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液体通过真空夹层循环,在过滤的过程中起到保温作用,可以用于在加热或泠凝状态下的过滤,防止分解或晶体析出。
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芯硅谷 M6585 微量砂芯过滤装置
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芯硅谷 吸管 F1588 尖端细吸管,1.5/5/7ml 巴氏吸管一次性吸管
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芯硅谷量筒 C5979 TC量入式圆底具塞量筒,高硼硅玻璃,10-1000ML
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芯硅谷 接头 S4507 旋蒸用小瓶接头,高硼硅玻璃
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芯硅谷镊子 C6099 420不锈钢弯头水草镊子,300mm
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芯硅谷量杯 B1619 180ML pp塑料带倾倒口量杯,刻度杯,计量杯