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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅刻蚀SiC—刻蚀碳化硅 金属刻蚀Al—感应
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掺镁铌酸锂晶片
美国Crystal Technology公司提供掺MgO铌酸锂晶片(MgO:LN)。 由于没有光折变损伤,具有高纯度与高损伤阈值的掺氧化镁铌酸锂晶体能够承受的光强比一般的非掺杂纯铌酸锂晶体高几百
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅刻蚀SiC—刻蚀碳化硅化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓
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高真空钽加热炉
产品简介:高真空钽加热炉是高温电阻加热炉。以钽为加热元件,适用于高真空状态下对金属、非金属及其化合物进行烧结、熔化,也可以对小型样品进行真空钎焊的操作,如硬质合金、镍基合金、粉末冶金、镍钴合金
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PPLN波导
PPLN波导 ppln波导我们的PPLN波导促进了高效且具有成本效益的频率转换,提供了一条获取目前商业激光源无法提供的波长的途径
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基于非线性晶体光波导的波长转换器
基于非线性晶体光波导的波长转换器上海昊量光电设备有限公司推出一系列用于高效波长转换的基于非线性晶体光波导的波长转换器,其中非线性晶体包括PPLN
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
刻蚀Mo—刻蚀钼刻蚀Nb(反应离子刻蚀,感应耦合等离子体)—刻蚀铌刻蚀Ni—刻蚀镍离子束刻蚀Ni—刻蚀镍铬合金溅射刻蚀Pt—溅射刻蚀铂刻蚀Ti—超大刻蚀深度刻蚀Ta—刻蚀钽刻蚀W—刻蚀钨TiN的
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N-羟基-N-苯基苯甲酰胺 CAS:304-88-1 乐研Leyan.com
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钽(Ta)片
产品名称:钽(Ta)片产品参数:常规尺寸:10x10x1.0mm 标准包装:1000级超净室100级超净袋真空包装储存须知:由于金属极易氧化,请于真空储藏。
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