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日本EHC 自动转印显影机ACT-300A2
机器人Tatsumo定心台,用于准确定位基片。可以注册10个步骤x50个模式的食谱。以0.1秒为增量的处理时间设置板速交流伺服电机控制的 0-3000 rpm 精度±2 转速以内设备尺寸 W1120
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德国Sentech等离子体沉积机PECVD Depolab 200
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德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD
PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺,a- si在室温到350℃之间。
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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Q300T D Plus 双靶顺序溅射镀膜仪
使用情况对每个用户的食谱进行分类16GB内存可存储1000多种配方新型多色LED可视状态指示灯可互换的载物台选项两个溅射头,用于不同材料的大面积沉积小样品的单头选择 适用于两种材料的多层顺序溅射,具有
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德国Sentech等离子体沉积机PECVD Depolab 200
设计与直接负载相结合。 可升级性 根据其模块化设计,depolab200可以升级为更大的抽油机、低频电源和额外的燃气管道。 SENTECH控制软件 用户友好功能强大的软件包括模拟GUI,参数窗口,食谱
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
、真空负载锁和额外的气体管道。 SENTECH控制软件:用户友好功能强大的软件包括模拟GUI,参数窗口,食谱编辑器,数据日志,用户管理。Etchlab 200 RIE 等离子体蚀刻机是一种将RIE
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Q300T T Plus 三靶溅射镀膜仪
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Q150T Plus涡轮分子泵镀膜仪,高分辨率成像
升级和下载过程日志文件的 USB 端口可以在一台计算机上设置多用户配置文件新软件根据最近的使用情况对每个用户的食谱进行分类16GB内存可存储1000多种配方新型多色LED可视状态指示灯能够实现 5 x
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