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CD1000 等离子表面处理设备
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日本电子BS-80020CPPS等离子体源 表面清洗
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ICP-MS赛默飞 系列 ICP-OES 适用于等离子体参数、分析谱线选择、基体效应
赛默飞ICP-MSiCAP 7000 Plus用于测定石墨 粉,符合行业标准。适用等离子体参数、分析谱线选择、基体效应项目。 iCAP 7000 Plus系列ICP-OES体积小巧,集约化的设计在
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ibss 移动式等离子清洗系统 MCA
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安东帕VCD酸蒸清洗器 清洗微波消解
仪器简介:洁净的反应管是获得正确分析结果的前提,而通常空白消解的清洗方式不仅费时而且效率较低.酸蒸清洗器确保了痕量分析和超痕量分析最低的空白值.酸蒸清洗器可用于清洗微波消解或常规压力消解的各种消解罐
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安东帕VCD酸蒸清洗器 火炬管等的痕量清洗
主要特点:高效而经济的清洗工具操作简单方便高效zei低的空白值zei低的清洗试剂消耗技术参数:接触反应管和试剂部分材质 : PFA, PTFE加热板材质: 镀PTFE石墨温度范围 : zei高250
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TraceClean 酸逆流清洗系统
清洗用于痕量分析的各种附件是一项审慎而重要的实验流程。传统的清洗方法是在热酸中浸泡数小时,但是这种方法不仅效率低、易造成大量的酸消耗,而且需要定期更换、热酸和酸蒸汽的暴露也往往给操作人员带来
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安东帕VCD酸蒸清洗器 ICP的雾化室的痕量清洗
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ibss样品杆存储检漏等离子清洗多功能系统 Chiaro
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YAMATO雅马拓等离子清洗机 PDC610
小型、多段式等离子清洗机用途● 提高各种材料的粘接性、表面改质处理● 灰化、蚀刻处理● 塑料封装前处理● 印刷基板镀层前处理● LED关联部品处理● 电子部品清洗● 光刻胶剥离或表面
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