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Otsuka膜厚测量仪
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膜厚测量仪FE-300
膜厚量测仪FE-300的特点测试范围涵盖薄膜到厚膜基于绝对反射率光谱分析膜厚小型・低价,精度高无复杂设定,操作简单,短时间内即可上手外观新颖,操作性提高非线性*小二乘法,实现光学常数解析(n:折射率
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膜厚测量仪FE-3
膜厚量测仪FE-3的特点使用分光干涉法原理配置高精度FFT膜厚分析引擎(专利 第4834847号)可通过光纤灵活构筑测量系统可嵌入各种制造设备可实时测量膜厚支持远程遥控,多点测量采用长使用寿命,高
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F50 光学膜厚测量仪
F50薄膜厚度测量仪自动化薄膜厚度绘图系统依靠F50先进的光谱测量系统,可以很简单快速地获得大直径450毫米的样品薄膜的厚度分布图。采用r-θ极坐标移动平台,可以非常快速的定位所需测试的点并测试厚度
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安东帕 CAT²c/i涂层测厚仪 膜厚测量
仪器简介:球磨型膜厚磨损测试仪 球磨型膜厚测试仪Calotest为您提供简单快速并且低成本的膜厚测量方法。一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中,磨球与试样的相对
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反射式膜厚测量仪FE-3000
反射式膜厚量测仪的产品特点完美对应紫外到近红外(190~1600nm)广波长范围。利用高分辨率传感器,可对应厚膜以及超厚膜样品类型:0.8~1mm利用非线性*小二乘法薄膜解析软件,可解析多层薄膜的膜
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Otsuka膜厚测量仪
产地属性:亚洲 FE-5OOOS 虽然和FE-5000有相同的基本功能,但是价格低,体积小。 在高精度薄膜分析的膜厚测量仪基础上,增加安装了自动角度调节装置,实现高速的薄膜测量和高精度的
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显微分光膜厚仪
OPTM 系列显微分光膜厚仪头部集成了薄膜厚度测量所需功能通过显微光谱法测量高精度绝对反射率(多层膜厚度,光学常数)1点1秒高速测量显微分光下广范围的光学系统(紫外至近红外)区域传感器的安全机制易于
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OPTM 半导体膜厚测试仪
特长 Features· 膜厚测量中必要的功能集中于头部· 通过显微分光高精度测量绝对反射率(多层膜厚、光学常数)· 1点只需不到1秒的高速tact· 实现了显微下广测量波长范围的光学系(紫外~近
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奥谱天成ATGX310系列 光学薄膜厚度测量仪 适合测量半导体膜厚测量
光学薄膜厚度测量系统,是利用薄膜反射光干涉的原理,对薄膜进行厚度测量及分析。它非常适合测量半导体、LCD、TFT、PDP、LED、触摸屏、汽车车灯、医学、太阳能、聚合物薄膜、眼镜等光学元件的膜厚测量。
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