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艾德姆EBL系列分析天平
背光LCD显示屏在任何光线条件下轻松可见。会发光的电容式触摸键盘操作灵活,表面坚固、光滑,方便擦拭。水平仪和可调节脚便于调整天平水平位置,并帮助天平获得最佳的称量结果。带有可拆卸的防风罩来减低读数的
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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统
电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 、 电子束曝光系统 CABL-9000C series
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艾德姆EBL系列分析天平
会发光的电容式触摸键盘操作灵活,表面坚固、光滑,方便擦拭。水平仪和可调节脚便于调整天平水平位置,并帮助天平获得zei佳的称量结果。带有可拆卸的防风罩来减低读数的误差。全金属抗氧化铸铝外壳
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电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 EVG半导体检测仪
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)是微纳电子器件制作中的重要技术之一,日本CRESTEC公司生产的CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000TF系列
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半导体检测仪电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography) 电子束直写系统 CABL-9000C series
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)在微纳电子器件制造中扮演着重要的角色,是纳米光刻技术制造方法之一。日本CRESTEC公司推出了先进的电子束纳米光刻(EBL)系统,也称为
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艾德姆Eclipse系列精密天平
外部校准型号EBL223eEBL423eEBL623eEBL823e内部校准型号EBL223iEBL423iEBL623iEBL823i量程(g)220420620820可读性(g)0.001去皮
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半导体检测仪 CABL-9000C seriesEVG
电子束光刻系统EBL(E-BeamLithography)是纳米光刻技术中的关键设备之一,在微纳电子器件的制作中扮演重要角色。日本CRESTEC公司提供先进的电子束纳米光刻(EBL)系统,也称为
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TESCAN CLARA 超高分辨场发射扫描电镜
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TESCAN CLARA 超高分辨场发射扫描电镜 用于制药研究
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TESCAN CLARA 超高分辨场发射扫描电镜 用于石油研究
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