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森馥科技ICD-1离子流密度检测系统
目前我国使用的标准为:DL/T1089-2008 《直流换流站与线路合成场强、离子流密度测量方法》DL/T1088-2008 《±800kV特高压直流线路电磁环境参数限值》ICD-1离子流密度检测
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赛默飞(原FEI) 双束扫描电镜Helios 5 DualBeam
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(原FEI) 双束扫描电镜Helios 5 DualBeam赛默飞 应用于新能源
nm at 1 kV1.0 nm at 1 kV1.0 nm at 500 V (ICD)0.9 nm at 1 kV 减速模式*在束流重合点0.6 nm at 15 kV0.6 nm at 15
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赛默飞Helios 5 DualBeam(原FEI) 双束扫描电镜 应用于高分子材料
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Helios 5 DualBeamFIB-SEM(原FEI) 双束扫描电镜
稳定的高分辨率分析电流电子束分辨率最佳工作距离下0.6nmat30kVSTEM0.6nmat30kVSTEM0.6nmat15kV0.7nmat1kV1.0nmat1kV1.0nmat500V(ICD
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赛默飞(原FEI) 双束扫描电镜Helios 5 DualBeam 其他资料
at 1 kV1.0 nm at 1 kV1.0 nm at 500 V (ICD)0.9 nm at 1 kV 减速模式*在束流重合点0.6 nm at 15 kV0.6 nm at 15
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赛默飞Helios 5 DualBeamFIB-SEM 欧波同锂离子电池显微智能分析解决方案
kV0.7 nm at 1 kV1.0 nm at 1 kV1.0 nm at 500 V (ICD)0.9 nm at 1 kV 减速模式*在束流重合点0.6 nm at 15 kV0.6 nm
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赛默飞FIB-SEM(原FEI) 双束扫描电镜 应用于电池/锂电池
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赛默飞(原FEI)Helios 5 DualBeam 双束扫描电镜 自动工作流程
新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 产品系列业界领先的高性能成像和分析性能。
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赛默飞(原FEI)Helios 5 DualBeam 双束扫描电镜 高质量样品制备
新一代的赛默飞世尔科技 Helios 5 DualBeam 具有 Helios 5 产品系列业界领先的高性能成像和分析性能。
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