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UVISEL 堀场HORIBA椭偏仪 可检测ZnO薄膜
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 用于测定ZnO薄膜,符合行业标准0。适用光学常数项目。 技术参数: * 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm
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UVISEL 堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪 可检测ZnO薄膜
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 参考多项行业标准0。完成ZnO薄膜的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的Al含量,膜厚度项目。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术
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安东帕Nova系列比表面和孔径分析仪 测量硅基类材料的孔径分布
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椭偏仪堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪 椭圆偏振光谱仪研究ZnO薄膜
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 可用于测定ZnO薄膜,适用于光学常数项目。并且参考多项行业标准0。可应用于涂料行业领域。 技术参数: * 光谱
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Al2O3+ZnO薄膜
产品名称:AL2O3+ZnO晶体(进口料ZnO?epi?film?on?Sapphire)技术参数:晶向:薄膜厚度:500A(0.5 micron)厚度公差:5%电阻率:10 to 10E3
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塞默飞CTS™ Neurobasal™ 培养基
Gibco™CTS™ Neurobasal™ 培养基货号: A1371201CTS Neurobasal 培养基专为转化干细胞研究人员而设计。配合 B-27 补充剂一起使用时,其可用于培养产前神经元
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耶拿 Fastblot B34 半干转印系统 新型增塑的碳基和生物惰性材料防止腐蚀
地转移到载体膜上。同时,确保整个转移膜表面上的温度分布均匀。•对于蛋白质的快速半干印迹高达150 KDa•基于碳电极•16×20厘米印迹区•Fastblot B34电极的新型增塑的碳基和生物惰性材料
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美国MASZeta电位纳米粒度及Zeta电位分析仪 APS-100超声法粒度仪在ZnO纳米颗粒和ZnO-EG纳米流体方面的应用
美国MASZeta电位 ZetaAPS型可以用在纳米材料行业领域,用来检测纳米氧化锌,可完成粒度分布检测项目。符合多项行业标准。 胤煌科技推出的Zeta APS原液/高浓度粒度及Zeta电位分析仪
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模块化工作站 HAAKE 赛默飞MARS III 材料物性表征部 产品目录
点击查看下载模块化工作站 HAAKE 赛默飞MARS III 材料物性表征部 产品目录相关资料,进一步了解产品。 材料物性表征部 产品概况:创新的哈克MARSIII 平台,以长远的眼光来设计,独有
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MARS III流变仪模块化工作站 HAAKE 应用于机械设备
点击查看下载MARS III流变仪模块化工作站 HAAKE 应用于机械设备相关资料,进一步了解产品。 材料物性表征部 主机性能单位MARSIII最小扭矩µN.m0.003最大扭矩mNm200扭矩
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