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Imprint Nano纳米压印
纳米压印的技术与工艺特点,独创性地设计和制备工作于低真空环境下,结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的,通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 纳米压印
产品特点:JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个
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纳米压印设备之热压印:EVG510HE
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DMD无掩模光刻机
DMD无掩模光刻机 DMD无掩模光刻机 SmartPrint UV SystemDMD无掩模光刻机SMART PRINT UV是一种基于DMD投影技术的无掩模光
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DMD无掩膜光刻机
DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机!AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范
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微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机可用于纳米压印,化合物半导体器件和功率器件等领域
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小型台式无掩膜光刻机
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EVG610单面/双面光刻机
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微流控芯片加工:EVG 610单面/双面光刻机
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纳米压印系统
Nanonex由纳米压印领域先行者、普林斯顿大学周郁教授(Prof. Stephen Y. Chou)于1999年创立,其核心技术为周教授的研究团队历时八年、花费数百万美元科研经费完成的
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国办印发《关于创新完善体制机制 推动招标投标市场规范健康发展的意见》
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