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牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE 应用于纳米材料
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用于纳米材料
)刻蚀工艺非常适于刻蚀纳米级薄层应用III-V族材料刻蚀工艺固体激光器InP刻蚀VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀 射频器件低损伤GaN刻蚀硅 Bosch和超低温刻蚀工艺 类金刚石(DLC)沉积
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PlasmaPro 100 ALE牛津仪器原子层刻蚀 应用于纳米材料
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors
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PlasmaPro 100 ALE牛津仪器原子层刻蚀 应用于高分子材料
多项行业标准Oxford Instruments。可应用于纳米材料行业领域。 Plasma Solutions for Optoelectronic Semiconductor Device
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 应用于纳米材料
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域,用来检测Nano Material,可完成Nano Material项目。符合多项行业标准Oxford
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卓立汉光PL光致发光光谱测量系统 应用于LED发光材料领域
卓立汉光PL光致发光光谱测量系统 应用于LED发光材料领域仪器简介: PL光致发光光谱测量系统介绍 (电致发光) 光致发光(photoluminescence)即PL,是用紫外、可见或红外
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半导体检测仪原子层刻蚀牛津仪器 应用于高分子材料
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Semiconductor的检测。可以用在高分子材料行业领域中的
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原子层刻蚀半导体检测仪牛津仪器 应用于高分子材料
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE可以用在纳米材料行业领域,用来检测Power Semiconductors,可完成Power Semiconductors项目。符合多项行业标准
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 应用于高分子材料
工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大200mm的晶圆高深宽比(HAR)刻蚀工艺非常适于刻蚀纳米级薄层应用III-V族材料刻蚀工艺固体激光器InP刻蚀VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀 射频
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 应用于高分子材料
于纳米材料行业领域。 纳米材料生长和表征 准确的刻蚀深度控制;光滑的刻蚀表面低损伤工艺数字化/循环式刻蚀工艺——刻蚀相当于ALD高选择比能加工最大200mm的晶圆高深宽比(HAR)刻蚀工艺非常适于刻蚀
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