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PlasmaPro100 Estrelas牛津仪器刻蚀设备
PlasmaPro100Estrelas平台旨在满足微电子机械系统(MEMS)、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求,提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位灵活性
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牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备牛津仪器
Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了多种刻蚀和沉积方法,并且可以在同一设备上实现,从而提高系统的利用率。我们的设备
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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哈佛注射泵蠕动泵/注射泵哈佛仪器
根据您的应用方向和预算选择合适的哈佛注射泵。选择注射泵时需要考虑以下问题:1. 您的应用方向是什么?2. 需要多少个注射器同时工作?3. 需要什么规格的注射器?4. 需要使用多快的流速?注射的总量
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哈佛 注射泵蠕动泵/注射泵哈佛仪器
哈佛PHD22/2000注射泵KEY FEATURES:- 高准确度和精度- 多种配置选择- 平滑推动,流量控制范围广- 支持多注射器架,适用于大容量注射需求应用领域:- 药物/营养液输送- 静电
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Pump 11 Elita 哈佛 Pump 11 Elite 注射泵哈佛仪器
注射泵 Pump 11 Elite具有独特的触摸屏设计,简单直观,操作便捷。无需电脑即可完成复杂的流量控制编程,具有35lbs的直线推力。可远程升级软件,适用于微流芯片药物/营养学研究、微透析反应室给
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哈佛PUMP 33 DDS注射泵哈佛仪器 PUMP 33 DDS
KEYFEATURES一台主机控制两个独立通道的注射泵超高的精度±0.25%可用注射器范围0.5μlto60ml平稳的流速控制,最小可到1.02pl/min(根据注射器决定)哈佛仪器
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哈佛PUMP 33 DDS注射泵哈佛仪器 PUMP 33 DDS
KEYFEATURES一台主机控制两个独立通道的注射泵超高的精度±0.25%可用注射器范围0.5μl到60ml平稳的流速控制,最小可到1.02pl/min(根据注射器决定)哈佛仪器Pump33DDS
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牛津仪器EBSD系统 应用于机械设备
牛津仪器EBSD系统Symmetry S2用于测定 Li-Ion battery,符合行业标准Oxford Instruments。适用Identifying contaminants
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5000系列牛津仪器XRD部件 应用于便携设备
点击查看下载5000系列牛津仪器XRD部件 应用于便携设备相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器的5000系列侧窗X射线管广受欢迎且经久耐用。5000系列的电子枪组件封装在内置铅层的不锈钢外壳中,且
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