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LIA001M配合丰富的模拟输入输出接口,集可视化锁相放大器、虚拟示波器、参数扫描仪、信号发生器、PID控制器等多种功能于一体,有效的简化科研工作流程和设备依赖,提高科研效率和质量,有内部参考、外部
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牛津仪器半导体检测仪刻蚀和沉积设备 半导体制造
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化合物半导体的刻蚀包括AlGaN/GaN/AlN的刻蚀,氮化铝镓的深度刻蚀,还有GaP、磷化镓、GaAs/AlGaAs、砷化镓/砷化铝镓、GaSb、氮化镓、InSb、锑化铟、InP/InGaAsP
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Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品,是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供多样化的刻蚀和沉积方法,并且可以在同一设备上实现,从而提高系统的利用率。我们的
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半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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PlasmaPro 100 ALE牛津仪器半导体检测仪 应用于电子/半导体
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域,用来检测Semiconductor,可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford
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