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XDV-µ 系列X射线荧光光谱仪(微小结构)
特点功能强大的高级型号,用于最小结构和小于 0.1 µm 的最薄涂层的精确涂层厚度测量和材料分析带钨靶的微聚焦射线管;可选钼靶4种可切换的滤波器极其强大的硅漂移探测器,有效面积为20 mm²或50
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EHF-L系列电液伺服疲劳试验机
行业进行各种材料、小结构部件的疲劳性能测试。 技术参数: 载荷容量:±5KN、±10KN、±20KN 活塞行程:±25/50mm 载荷精度:显示值的±0.5
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XDV-µ 系列X射线荧光光谱仪(微小结构)
特点功能强大的高级型号,用于最小结构和小于 0.1 µm 的最薄涂层的精确涂层厚度测量和材料分析带钨靶的微聚焦射线管;可选钼靶4种可切换的滤波器极其强大的硅漂移探测器,有效面积为20 mm²或
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赛默飞(原FEI) Verios XHR SEM
半导体工艺控制实验室测量对电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结构。 Verios 还包括一些易于使用的新功能,能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供最低的每样本成像和
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奥谱天成 ATH5010 显微高光谱成像仪分析系统 用于血细胞分类
ATH5010是奥谱天成推出的一款体积小、高清、高质量的显微高光谱成像仪,由高倍数显微镜、高光谱成像仪、数据处理工作站等组成。
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(原FEI) 赛默飞Verios XHR SEM 金属行业微观分析解决方案
进一步拓展至 20 nm 亚纳米量级半导体器件。Verios 可提供最佳的低电压 SEM 分辨率和材料对比度,能够让半导体工艺控制实验室测量对电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结
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(原FEI) 透射电镜Verios XHR SEM 样本
仪器成像的极小结构。 Verios 还包括一些易于使用的新功能,能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供最低的每样本成像和测量成本。Verios 的材料科学应用对材料科学家来说
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透射电镜(原FEI) Verios XHR SEM 应用于地矿/有色金属
使用传统 SEM 仪器成像的极小结构。 Verios 还包括一些易于使用的新功能,能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供最低的每样本成像和测量成本。Verios 的材料科学应用对材料科学
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(原FEI) Verios XHR SEM透射电镜 电子显微镜产品目录
电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结构。 Verios 还包括一些易于使用的新功能,能够为 22 nm 技术节点及以下的半导体结构提供最低的每样本成像和测量成本。Verios 的
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Verios XHR SEM透射电镜赛默飞 样本
进一步拓展至 20 nm 亚纳米量级半导体器件。Verios 可提供最佳的低电压 SEM 分辨率和材料对比度,能够让半导体工艺控制实验室测量对电子束敏感的材料以及无法使用传统 SEM 仪器成像的极小结
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