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福禄克 9260 小型铟/锡/锌/铝固定点复现/保存装置
已经写入定点炉的菜单中。操作时,只需调用相应的内置程序即可,自动复现固定点温度。用户也可自行设置操作参数。此炉的成本不到大型炉的一半,可以使用小型铟、锡、锌和铝固定点容器,覆盖从 156.5985°C
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牛津仪器半导体检测仪
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牛津仪器Etch刻蚀工艺牛津仪器
硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)五氧化二钽刻蚀Al2O3刻蚀氧化铝感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO刻蚀铟锡氧化
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牛津仪器 牛津仪器Etch刻蚀工艺
硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)五氧化二钽刻蚀Al2O3刻蚀氧化铝感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀-锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO刻蚀铟锡
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅刻蚀SiC—刻蚀碳化硅化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀LiTaO3—刻蚀钽酸锂刻蚀PZT—刻蚀锆钛酸铅刻蚀PbSe—刻蚀硒化铅刻蚀SiC—刻蚀碳化硅 金属刻蚀Al—感应
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3—刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀铟锡氧化物干法刻蚀LiNbO3—刻蚀铌酸锂干法刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
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氧化铟(III) CAS:1312-43-2 乐研Leyan.com
乐研Leyan.com:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。氧化铟(III)CAS No. :1312-43-2产品编号:1182389英文名称:Indium(III)oxide库存:现货供应
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氢氧化铟 CAS:20661-21-6 乐研Leyan.com
乐研Leyan.com:致力于为医药研发提供高品质化学试剂服务。氢氧化铟CAS No. :20661-21-6产品编号:1237263英文名称:Indium hydroxide,99.99%库存
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