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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 失效分析
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 可检测Power
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power
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牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD 可检测Semiconductors
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD可用于测定Power Semiconductors,适用于Power Semiconductors项目。并且参考多项行业标准
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镀膜机牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD 应用于纳米材料
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD镀膜机 应用于纳米材料
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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镀膜机PlasmaPro 100 PECVD牛津仪器 应用于电子/半导体
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power Semiconductors
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PlasmaPro 100 PECVD镀膜机牛津仪器 应用于高分子材料
牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统PlasmaPro 100 PECVD用于测定Nano Material,符合行业标准Oxford Instruments。适用Nano Material项目
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牛津仪器Etch刻蚀工艺牛津仪器
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb刻蚀锑化镓刻蚀GaN刻蚀氮化镓刻蚀InSb刻蚀锑
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牛津仪器 牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb刻蚀锑化镓刻蚀GaN刻蚀氮化镓刻蚀InSb刻蚀锑
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牛津仪器INCAWave波谱仪牛津仪器
INCAWAVE波谱仪采用了与EPMA不同的全聚焦几何设计,这使得分辨率提高了2倍,测量更加稳定且可重复。WAVE是一种以其工程精度和质量而闻名的全聚焦光谱仪。WAVE光谱仪的内部组件(晶体、探测器和
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