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多功能电子束曝光机
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EVGPIONEER Two多功能电子束曝光机
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 步进重复式曝光的优点
可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠
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上海纳腾高精度电子束曝光系统 具有易于控制的电子束条件
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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上海纳腾高精度电子束曝光系统 具有高通量的特点
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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上海纳腾高精度电子束曝光系统 具有均匀性好特点
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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上海纳腾高精度电子束曝光系统 具有超高书写精度特点
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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电子束曝光系统
(mean+2σ)。技术参数: 电子束光刻系统/电子束直写系统/电子束曝光系统 1.zei小线宽:小于10nm(8nm available) 2.加速电压:1-50kV 3.电子束直径:小于
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NPGS纳米图像电子束曝光系统
直接描画或投影复印图形的技术。它的特点是分辨率高、图形产生和修改容易、制作周期短。 由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JC Nabity
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