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GVC-1000小型离子溅射仪用于扫描电镜镀覆导电膜
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岛津AXIS SUPRA+/Kratos X射线光电子能谱仪 不同氩离子刻蚀模式对膜材料深度分析中元素化学态的影响
进行目标测试位置选择与深度剖析方法的提交。可配GCIS多模式离子枪,单氩离子模式用于金属类膜材料的深度剖析,低能团簇模式适用于常规有机物的刻蚀分析,20 kV最大团簇能量可以保证无机材料的有效分析
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