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牛津仪器半导体检测仪
化合物半导体的刻蚀包括AlGaN/GaN/AlN的刻蚀,氮化铝镓的深度刻蚀,还有GaP、磷化镓、GaAs/AlGaAs、砷化镓/砷化铝镓、GaSb、氮化镓、InSb、锑化铟、InP/InGaAsP
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牛津仪器半导体检测仪
Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品,是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供多样化的刻蚀和沉积方法,并且可以在同一设备上实现,从而提高系统的利用率。我们的
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牛津仪器半导体检测仪刻蚀和沉积设备 半导体制造
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PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪牛津仪器 应用于电子/半导体
点击查看下载PlasmaPro 100 Cobra半导体检测仪牛津仪器 应用于电子/半导体相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀 PlasmaPro 100
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE半导体检测仪 应用于电子/半导体
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE参考多项行业标准Oxford Instruments。完成Power Semiconductors的检测。可以用在纳米材料行业领域中的Power
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半导体检测仪牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra 应用于电子/半导体
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra适用于Semiconductor项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Semiconductor等样品。可应用
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PlasmaPro 100 ALE牛津仪器半导体检测仪 应用于电子/半导体
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE可以用在高分子材料行业领域,用来检测Semiconductor,可完成Semiconductor项目。符合多项行业标准Oxford
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半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE牛津仪器 应用于电子/半导体
牛津仪器原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE适用于Power Semiconductors项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Power
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牛津仪器刻蚀和沉积设备半导体检测仪 应用于电子/半导体
牛津仪器刻蚀和沉积设备PlasmaPro 100 Cobra可用于测定Semiconductor,适用于Semiconductor项目。并且参考多项行业标准Oxford Instruments。可应用
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刻蚀和沉积设备牛津仪器半导体检测仪 应用于电子/半导体
牛津仪器半导体检测仪PlasmaPro 100 Cobra用于测定Power Semiconductors,符合行业标准Oxford Instruments。适用Power
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