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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿
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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统利用步进重复式曝光的优点，结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能，能支持下一代掩模版/中间掩模版（mask/reticle）图形制作所需要的多种补偿
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金竟科技 电子束曝光系统——Pharos 310
电子束曝光指利用聚焦电子束在光刻胶上制造图形的工艺,是光刻工艺的延伸应用。电子束曝光系统是实现电子束曝光技术的硬件平台，系统的性能决定了曝光工艺关键尺寸、拼接和套刻精度等指标。
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电工所DY-2000A电子束纳米曝光系统
电子束纳米曝光系统DY-2000系统概述： 电子束纳米曝光系统是微细加工的专用设备，集光、机、电、真空、控制等多种高技术于一体。
北京科斯仪器有限公司 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
EBL电子束曝光系统/纳米图形发生系统NPGS
此CAD程序已经过修改，增加了用于电子束曝光的命令。图形运行包括设定参数，用于NPGS计算图形上每个点的位置以及曝光时间。
镇江乐华电子科技有限公司 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
日本电子BS-EBM系列多用途电子束熔炼炉
材料供应机+ 熔液箱 +转筒式结晶器 熔解･精炼･积层凝固材料供应机将颗粒材料投入熔液箱进行预熔､然后将熔料注入转筒式结晶器,进行积层凝固。
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日本电子JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为（计算值）2.1nm的电子束，简便地描画出线宽在8nm以下（实际可达5nm）的图形。
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统，兼具世界zei高水平的产出量和定位精度，zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版，适合纳米压印、光子器件
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ELS-F125/F100/HS50高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统，其可加工线宽下限为5nm的精细图形。
深圳市矢量科学仪器有限公司 400-6699-117 转 1000免费咨询 -
ELS-BODEN电子束光刻机
2 设备用途：电子束光刻设备具有广泛的应用域，主要包括：半导体制造：用于制作光刻掩模版，是半导体芯片制造中不可或缺的一部分。特别是在EUV光刻机掩模版的制作上，目只能依赖于电子束光刻技术。
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