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电子束曝光（EBL）技术首次应用于蝉翅结构纳米柱的仿生制造！
2019-03-14来源: TESCAN公司 -
全新发布 | TESCAN 正式发布一款全新的用于SEM和FIB-SEM系统中电子束曝光（EBL)）的软硬件解决方案
电子束曝光是一种使用聚焦电子束在覆盖有电子敏感膜（抗蚀剂）的表面上绘制图案的技术。
2021-02-05来源: TESCAN公司 -
凝心聚力，蓄势待发——纳克微束创立大会在京召开
2023-01-28来源: 纳克微束 -
半导体 | 光刻工艺(上)：表面制备、涂胶、软烘培、曝光
电子東光刻机:电子東光刻是一项成熟的技术，用于制造高精度掩模版。该系统包括一个电子发射源，它能产生小直径束斑和一个能够开关电子束的快门。为防止空气分子对电子束的影响，曝光必须在真空环境中进行。
2024-07-25来源: 爱蛙科技 -
中国品牌日，华大智造亮相云上中国自主品牌博览会
5月10日上午，云上2020年中国品牌日活动隆重开幕。本届主题为“中国品牌，世界共享；全面小康，品质生活；全球战‘疫’，品牌力量”。华大智造作为本次防疫重点产业板块，亮相深圳“鹏城万里” 展馆。
2021-03-01来源: MGI华大智造 -
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2024-08-16来源: 检测家 -
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2024-09-06来源: 检测家 -
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2024-10-11来源: 检测家 -
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2024-09-27来源: 检测家 -
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2024-07-22来源: 检测家
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