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紧凑磁控溅射镀膜机
);6/ 直流电源:2KW(800V - 2.5A);7/ 气体传输模块:MFC控制,氩气,100sccm; 磁控溅射镀膜机 - 紧凑,适合科研,极高性价比! 型号:AP-MMS1 产地:韩国
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钙钛矿镀膜机
技术参数1、镀膜室:不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm2、真空排气系统:采用分子泵+机械泵系统3、真空度:镀膜室极限真空≤6
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磁控溅射卷绕镀膜机
技术参数卷膜条件镀膜材料:PET 和无纺布适用制膜:软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。基材厚度:125~300μm有效镀膜宽幅:≤800 mm最大卷绕直径:Φ400 mm卷绕芯轴
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NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
源用于钝化层沉积 NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。 NIE-4000(M)IBE
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NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀
表面清洗表面处理离子铣带活性气体的离子束刻蚀光栅刻蚀SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高
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TQC-Sheen 自动镀膜机
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Ossila浸渍提拉镀膜机
v 最小提取速度:0.01mm.s-1。v 提取速度:50 mm s-1。v 速度再重现性:±0.01%@1mms-1,±0.1% @10mm.s-1,± 0.3% @ 50mm.s-1。v
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NIE-3500 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀产品应用:表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 该系统为全自动上下载片,并且通过计算机
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NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
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牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE
机Ionfab 300 IBE 离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项,包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调,以确保获得速率更快且
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