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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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美国OAI太阳模拟器
参数测试:开路电压(Voc)短路电流(lsc)最大的输出功率电池(Pmax)Pmax(空间)电压、电流Pmax(以)转换效率、填充因子(FF)串联电阻(Rs)、和分流电阻(Rsh) OAI可提供一个
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美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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伯东NS离子刻蚀机
上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子刻蚀机 离子蚀刻机 20-M/NS-12上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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数据记录光功率计
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紫外光功率计
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光学正面和背面光刻机OAI 800型
型号: OAI 800 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。 800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是
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美国OAI边缘曝光机2000SM,2000AF
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