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蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-501z
1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作,适用于研究开发及少量生产2.蒸发材料
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JMS-T2000GC AccuTOF GC-Alpha气相色谱飞行时间质谱联用仪GC-TOF
项目规格离子源EI分析仪反射式飞行时间质谱仪探测器双微通道板数据采集系统连续平均器Continuous Averager气相色谱仪安捷伦 8890 GC数据系统包括主要选项EI / FI / FD
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240-MS 离子阱气相色谱质谱联用仪
240-MS GC/MS参考性能指标离子源配置选项内源:可作EI全扫描,PCI外源:可作EI全扫描、PCI、NCIHybrid混合源:可作PCI、NCI质谱部分:m/z范围: 10~1000
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6502联锁实训装置SR3000-EI
主要参数技术指标电源:AC220V 功耗:500w主要设备标准站联锁显示控制台、6502继电器柜和维护工作站。产品接口信号道岔仿真实训系统 实训装置由标准站联锁显示控制台、6502继电器柜和
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ZK-7EI 基桩动测仪
主要技术指标:l 力通道:1挡荷压转换,1~16倍程控放大;l 速度通道:1~200倍前置放大,1~16倍程控放大;l A/D转换分辨率:12倍
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MSK-AFA-EI400自动涂布机
厚度:30-1000μm20、涂辊:钢轮,Φ120mm21、涂辊跳动:≤3μm22、刮刀定位精度:±1μm(千分表显示)23、纠偏精度:±0.5mm MSK-AFA-EI400自动涂布机专门用于箔材
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7000C/7000B/7000A三重四极杆串联气质联用仪
7000C三重四极杆质谱 操作模式:EI标准,CI选项 离子源材质:非镀层的,zl的惰性离子源 离子源温度:150-350℃ 灯丝:EI双灯丝 EI能量:10-300 eV 质量
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ID CUBE™ 离子源
ID CUBE™离子源的研发灵感来自对DART机理的进一步了解。科学家发现,在实现样品的 DART 实时快速分析过程中,样品蒸发和化合物解吸步骤zei为关键。一种方式是通过加热电离载气产生的
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Ion Source 离子源
离子源的类型对残余气体分析质谱仪来说至关重要,英国Hiden公司提供的离子源能适合各种应用、各种类型的RGA残余气体分析质谱仪,能满足用户的特定需要。离子源包括标准离子源、超高真空低剖面离子源
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DESI XS离子源
毛细管进入质谱进行分析。DESI XS:新型设计、性能优异DESI™ XS旨在利用创新科技实现更高的质量、可靠性和简便性。该离子源可部署在沃特世高分辨率质谱仪产品组合中,为市场带来一套灵活的解决方案
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